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dépôt chimique modifié en phase vapeur [1 fiche]

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Fiche 1 - données d’organisme interne 2000-08-01

Fiche 1, Anglais

Fiche 1, Subject field(s)

Industrial Techniques and Processes
Optical Telecommunications

modified chemical vapor deposition 1, fiche 1, Anglais, modified%20chemical%20vapor%20deposition
correct

MCVD 2, fiche 1, Anglais, MCVD
correct

modified chemical vapour deposition 3, fiche 1, Anglais, modified%20chemical%20vapour%20deposition
correct

Record number: 1, Textual support number: 1 CONT

The MCVD process was developed mainly at Bell Laboratories and it is now the most widely used production technology for making preforms. 3, fiche 1, Anglais, - modified%20chemical%20vapor%20deposition

Record number: 1, Textual support number: 1 PHR

Pressurized MCVD method. 4, fiche 1, Anglais, - modified%20chemical%20vapor%20deposition

Fiche 1, Français

Fiche 1, Domaine(s)

Techniques industrielles
Télécommunications optiques

dépôt chimique modifié en phase vapeur 1, fiche 1, Français, d%C3%A9p%C3%B4t%20chimique%20modifi%C3%A9%20en%20phase%20vapeur
correct, nom masculin

Fiche 1, Espagnol

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Date de modification :: 2024-05-27

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dépôt chimique modifié en phase vapeur [1 fiche]

Fiche 1 - données d’organisme interne 2000-08-01

Fiche 1, Anglais

Fiche 1, Subject field(s)

Fiche 1, La vedette principale, Anglais

Fiche 1, Les abréviations, Anglais

Fiche 1, Les synonymes, Anglais

Fiche 1, Justifications, Anglais

Record number: 1, Textual support number: 1 CONT

Record number: 1, Textual support number: 1 PHR

Fiche 1, Français

Fiche 1, Domaine(s)

Fiche 1, La vedette principale, Français

Fiche 1, Les abréviations, Français

Fiche 1, Les synonymes, Français

Fiche 1, Justifications, Français

Fiche 1, Espagnol

Fiche 1, Justifications, Espagnol