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CATHODE SPUTTERING [1 fiche]

Fiche 1 2008-11-25

Anglais

Subject field(s)
  • Electrical Engineering
DEF

A method of depositing thin-films which employs a high energy bombardment to release the source material.

Français

Domaine(s)
  • Électrotechnique
DEF

Procédé de dépôt métallique en couche mince, sous vide, consistant à arracher, sous l'action d'un bombardement ionique, des atomes à une cathode «cible» pour les déposer sur la pièce à revêtir faisant office d'anode.

CONT

La pulvérisation cathodique est utilisée pour déposer des revêtements décoratifs - sur des plastiques, notamment - ou des revêtements très durs sur des pièces devant résister à l'usure, par exemple des outils de coupe. Elle permet aussi, en adaptant la composition de la cible, de déposer des alliages, ce qui n'est pas possible avec d'autres méthodes, comme l'évaporation thermique.

Espagnol

Campo(s) temático(s)
  • Electrotecnia
CONT

La pulverización catódica es un procedimiento de deposición en vacío por medio de un plasma luminiscente en un gas (normalmente argón) que se mantiene a baja presión.

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