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ATTAQUE FAISCEAU IONS [1 fiche]

Fiche 1 2011-12-12

Anglais

Subject field(s)
  • Analytical Chemistry
  • Atomic Physics
CONT

The major advantage of ionic etching is that the object is bombarded by the ions in [a] chamber of analysis.

Français

Domaine(s)
  • Chimie analytique
  • Physique atomique
DEF

Ajustage de l'épaisseur des couches d'un échantillon consistant à bombarder le matériau à traiter d’un faisceau d'ions provenant d'un plasma qui arrache la matière à l'endroit souhaité.

OBS

Les principaux accessoires des appareils Auger sont : — un détecteur d’électrons secondaires, qui permet d’obtenir une image MEB [microscopie électronique à balayage] de l’échantillon et de sélectionner la zone à analyser; — un dispositif de décapage ionique plus ou moins sophistiqué, qui permet de nettoyer la surface de l’échantillon préalablement à l’analyse; — un sas d’introduction de l’échantillon, qui évite de remettre toute l’enceinte à la pression atmosphérique à chaque changement d’échantillon.

Espagnol

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