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IMPLANTATION IONIQUE [2 fiches]

Fiche 1 2017-04-06

Anglais

Subject field(s)
  • Semiconductors (Electronics)
  • Deterioration of Metals
DEF

A method of doping or modifying the characteristics of semiconductor material by bombardment with charged particles to enhance or change the characteristics of semiconductor material from P- or N-type characteristics.

DEF

A process of introducing impurities into the near-surface regions of solids by directing a beam of ions at the solid.

Français

Domaine(s)
  • Semi-conducteurs (Électronique)
  • Altération des métaux
DEF

Procédé consistant à implanter des atomes étrangers dans un matériau, à une profondeur de quelques dixièmes de nanomètre à quelques micromètres. Les atomes, à l'état de vapeur dans un vide poussé, sont accélérés vers la cible sous l'action d'un champ électrique intense.

CONT

L'implantation ionique est utilisée en électronique pour doper les semi-conducteurs. Dans la fabrication des tranches de silicium destinées à recevoir des microcircuits, on implante des atomes d'oxygène pour former une couche isolante au cœur de la matière. En métallurgie, l'implantation ionique d'atomes d'azote est utilisée pour le durcissement superficiel de métaux comme le titane.

Espagnol

Conserver la fiche 1

Fiche 2 1982-03-24

Anglais

Subject field(s)
  • Electronic Warfare

Français

Domaine(s)
  • Guerre électronique

Espagnol

Conserver la fiche 2

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