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PROCEDE PLANAR [1 fiche]

Fiche 1 2011-09-28

Anglais

Subject field(s)
  • Electronic Circuits Technology
DEF

A silicon-transistor manufacturing process in which a fractional-micrometer-thick oxide layer is grown on a silicon substrate; a series of etching and diffusion steps is then used to produce the transistor inside the silicon substrate.

Français

Domaine(s)
  • Technologie des circuits électroniques
CONT

Procédé planar. C'est le nom donné à l'origine au procédé de diffusion localisée dans le silicium et dans lequel la couche d'oxyde servant de barrière à la diffusion est, par la suite maintenue à la périphérie de la jonction.

CONT

Dans la «technique plane» ou «planar», la diffusion gazeuse est précédée d'un certain nombre d'opérations qui permettent de délimiter les zones de la plaquette où la pénétration des impuretés doit se produire.

Espagnol

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