TERMIUM Plus®

La banque de données terminologiques et linguistiques du gouvernement du Canada.

FIDUCIAL MARK [3 fiches]

Fiche 1 2011-05-05

Anglais

Subject field(s)
  • Photography
DEF

Index marks (usually 4), rigidly connected with the camera lens through the camera body, which form images on the negative. The marks are adjusted so that the intersection of lines drawn between opposite fiducial marks defines the principal point.

Français

Domaine(s)
  • Photographie
DEF

Marque du fond de chambre définissant le point principal par l'intersection des lignes droites joignant deux à deux les marques opposées; elle donne une impression sur le cliché, qui permet de reconstituer, sur ce dernier, la position du point principal et de définir les axes des coordonnées cliché.

Espagnol

Conserver la fiche 1

Fiche 2 2002-02-18

Anglais

Subject field(s)
  • Photography
DEF

An index mark, rigidly connected with the camera body, which forms an image on the negative. This image is used to determine the position of the optical centre or principal point of the imagery.

OBS

fiducial mark; collimating mark: terms and definition standardized by NATO.

Français

Domaine(s)
  • Photographie
DEF

Repère rigidement lié à la chambre qui donne une image sur chaque cliché. Les images des repères de fond de chambre permettent de déterminer la position du point principal de chaque cliché.

OBS

repère de fond de chambre; repère de cliché : termes et définition normalisés par l'OTAN.

Espagnol

Campo(s) temático(s)
  • Fotografía
DEF

Marca rígidamente fija en el fondo de la cámara que forma una imagen sobre el negativo. Se emplea para determinar la posición del centro del eje óptico o del punto principal de cada imagen.

Conserver la fiche 2

Fiche 3 2000-11-02

Anglais

Subject field(s)
  • Electronic Circuits Technology
  • Printed Circuits and Microelectronics

Français

Domaine(s)
  • Technologie des circuits électroniques
  • Circuits imprimés et micro-électronique
DEF

Motif, généralement sous forme de carrés concentriques, inscrit sur le masque et sur la tranche de silicium et servant à faciliter la superposition du masque sur la tranche pendant la lithographie.

Espagnol

Conserver la fiche 3

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