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DEEP REACTIVE ION ETCHING [1 fiche]

Fiche 1 2025-12-05

Anglais

Subject field(s)
  • Electronic Circuits Technology
  • Printed Circuits and Microelectronics
  • IT Security
CONT

Deep reactive-ion etching (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep-sided holes and trenches in wafers/substrates, typically with high aspect ratios.

Français

Domaine(s)
  • Technologie des circuits électroniques
  • Circuits imprimés et micro-électronique
  • Sécurité des TI
CONT

Gravure ionique réactive profonde (DRIE). Dans les cas où la profondeur de gravure est très grande, la RIE [gravure ionique réactive] n'est plus une option valable de gravure à cause de la faible sélectivité avec le masque. Les procédés de DRIE offrent des sélectivités plus importantes et permettent donc d'atteindre des profondeurs de gravure de 500 µm [micromètres] ou plus [...]

Espagnol

Campo(s) temático(s)
  • Tecnología de los circuitos electrónicos
  • Circuitos impresos y microelectrónica
  • Seguridad de IT
CONT

La masa [...] inercial se crea mediante grabado de la capa de silicio tanto superior como inferior de la oblea de SOI (silicio sobre aislante) mediante RIE (grabado iónico reactivo) y DRIE (grabado iónico reactivo profundo), respectivamente.

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