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ION BEAM LITHOGRAPHY [1 fiche]

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Fiche 1 2001-05-15

Anglais

Subject field(s)
  • Printed Circuits and Microelectronics
  • Industrial Techniques and Processes
OBS

Ion-beams are used to produce fineline lithography patterns in semiconductor processing operations or as etchers in ion-milling stages.

Français

Domaine(s)
  • Circuits imprimés et micro-électronique
  • Techniques industrielles
CONT

Les procédés clés qu'emploie le Groupe de microfabrication comprennent la lithographie (optique, par faisceau électronique et par faisceau ionique), la gravure par faisceau ionique et attaque chimique.

Espagnol

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