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PECVD [1 fiche]
Fiche 1 - données d’organisme interne 2008-11-25
Fiche 1, Anglais
Fiche 1, Subject field(s)
- Electrical Engineering
Fiche 1, La vedette principale, Anglais
- plasma-enhanced chemical vapor deposition
1, fiche 1, Anglais, plasma%2Denhanced%20chemical%20vapor%20deposition
correct
Fiche 1, Les abréviations, Anglais
- PECVD 2, fiche 1, Anglais, PECVD
correct
Fiche 1, Les synonymes, Anglais
Fiche 1, Justifications, Anglais
Record number: 1, Textual support number: 1 OBS
Chemical vapor deposition (CVD) deposits atoms or molecules by reducing the decomposition of a chemical-vapor precursor species that contains the material to be deposited. The reduction is normally accomplished using hydrogen at an elevated temperature. Decomposition is accomplished by thermal activation. The use of a plasma allows the reduction or decomposition to be done at a lower temperature than using temperature alone. 3, fiche 1, Anglais, - plasma%2Denhanced%20chemical%20vapor%20deposition
Fiche 1, Terme(s)-clé(s)
- plasma-enhanced chemical vapour deposition
Fiche 1, Français
Fiche 1, Domaine(s)
- Électrotechnique
Fiche 1, La vedette principale, Français
- dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma
1, fiche 1, Français, d%C3%A9p%C3%B4t%20chimique%20en%20phase%20vapeur%20activ%C3%A9%20par%20plasma
correct, nom masculin
Fiche 1, Les abréviations, Français
Fiche 1, Les synonymes, Français
Fiche 1, Justifications, Français
Record number: 1, Textual support number: 1 DEF
Technique de dépôt chimique de couches minces en présence d'un gaz partiellement ionisé, appelé plasma. 2, fiche 1, Français, - d%C3%A9p%C3%B4t%20chimique%20en%20phase%20vapeur%20activ%C3%A9%20par%20plasma
Fiche 1, Espagnol
Fiche 1, Campo(s) temático(s)
- Electrotecnia
Fiche 1, La vedette principale, Espagnol
- deposición química en fase vapor asistida por plasma
1, fiche 1, Espagnol, deposici%C3%B3n%20qu%C3%ADmica%20en%20fase%20vapor%20asistida%20por%20plasma
correct, nom féminin
Fiche 1, Les abréviations, Espagnol
Fiche 1, Les synonymes, Espagnol
- depósito químico en fase vapor asistido por plasma 2, fiche 1, Espagnol, dep%C3%B3sito%20qu%C3%ADmico%20en%20fase%20vapor%20asistido%20por%20plasma
correct, nom masculin
Fiche 1, Justifications, Espagnol
Record number: 1, Textual support number: 1 CONT
La deposición de películas delgadas de materiales dieléctricos para separar eléctricamente partes de los dispositivos electrónicos a realizar es inevitable en la mayor parte de los casos. Una de las técnicas mejor establecidas para ello es la deposición en fase vapor asistida por plasma [...], que permite obtener dieléctricos con baja porosidad y uniformes en tallas laterales de sustrato grandes, conformes con la topología del sustrato, y con velocidades de depósito altas. 1, fiche 1, Espagnol, - deposici%C3%B3n%20qu%C3%ADmica%20en%20fase%20vapor%20asistida%20por%20plasma
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