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GRAVURE ANISOTROPIQUE [2 fiches]

Fiche 1 2025-12-11

Anglais

Subject field(s)
  • Electronic Circuits Technology
  • Printed Circuits and Microelectronics
  • IT Security
CONT

Isotropic etching is an etching method which removes part of the substrate non-directionally ... resulting in round corners. On the contrary, anisotropic etching means each crystallographic orientation has [a] different etching rate, so the corners are sharp ...

Français

Domaine(s)
  • Technologie des circuits électroniques
  • Circuits imprimés et micro-électronique
  • Sécurité des TI
DEF

Gravure dont la vitesse d’attaque varie selon la direction considérée dans la masse d’un substrat.

CONT

Une caractéristique de la gravure anisotrope est qu’elle est fortement liée à la structure cristallographique du substrat.

Espagnol

Campo(s) temático(s)
  • Tecnología de los circuitos electrónicos
  • Circuitos impresos y microelectrónica
  • Seguridad de IT
CONT

El grabado anisotrópico es favorecido por la componente física, más que por la química del proceso, esto se debe a que es posible dirigir verticalmente partículas altamente energéticas hacia la superficie del sustrato, colisionando con ella para realizar grabado direccional.

Conserver la fiche 1

Fiche 2 2010-03-29

Anglais

Subject field(s)
  • Electronic Circuits Technology
  • Photoelectricity and Electron Optics
CONT

Based on a micromachining process that can be adopted by current silicon production facilities, these are relatively inexpensive to manufacture and should allow the development of infrared imagers costing one or two orders of magnitude less than current designs, perhaps a few thousand dollars or less.

Terme(s)-clé(s)
  • micro-machining process
  • micro-machining

Français

Domaine(s)
  • Technologie des circuits électroniques
  • Photo-électricité et optique électronique
DEF

Ensemble des techniques de microgravure isotropique ou anisotropique du silicium par attaque chimique, photolithographie, gravure par faisceaux d’ions, gravures «plasma».

CONT

La firme a mis au point des réseaux plan-focal bidimensionnels en silice micro-usinée, le micro-usinage est un nouveau procédé de fabrication en usage dans l’industrie microélectronique, sensibles à l’infrarouge.

OBS

micro-usinage : terme publié au Journal officiel de la République française le 27 décembre 2009.

Espagnol

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