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MASQUE PHOTOGRAPHIQUE [5 fiches]

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Liste alphabétique des termes

Fiche 1 2022-01-19

Anglais

Subject field(s)
  • Printed Circuits and Microelectronics
  • Semiconductors (Electronics)
DEF

A film or glass negative that has many high-resolution images, used in the production of semiconductor devices and integrated circuits.

CONT

The photolithography mask acts as a template, and is designed to optically transfer patterns onto wafers or other substrates in order to fabricate devices of all types.

OBS

photo mask: designation officially approved by the Electronics and Telecommunications Terminology Committee (CUTEL).

Français

Domaine(s)
  • Circuits imprimés et micro-électronique
  • Semi-conducteurs (Électronique)
DEF

Plaque de verre ou pellicule transparente contenant une matrice régulière de motifs de circuits identiques et qui permet la réalisation de plusieurs circuits sur une tranche de semiconducteur.

OBS

masque photographique : désignation uniformisée par le Comité d'uniformisation des termes de l'électronique et des télécommunications (CUTEL).

Espagnol

Campo(s) temático(s)
  • Circuitos impresos y microelectrónica
  • Semiconductores (Electrónica)
DEF

Placa diseñada con una imagen opaca y translúcida, usada como filtro de luz para transferir un diseño a una película o material recubierto con película.

Conserver la fiche 1

Fiche 2 - données d’organisme externe 2021-03-18

Anglais

Subject field(s)
  • Compartment – Nomenclature 4.0
  • Museums and Heritage (General)
OBS

photographic mask: an item in the "Photographic Tools and Equipment" class of the "Tools and Equipment for Communication" category.

Français

Domaine(s)
  • Tiroir – Nomenclature 4.0
  • Muséologie et patrimoine (Généralités)
OBS

masque; masque photographique : objets de la classe «Outils et équipement photographiques» de la catégorie «Outillage et équipement pour la communication».

Espagnol

Conserver la fiche 2

Fiche 3 2001-05-18

Anglais

Subject field(s)
  • Printed Circuits and Microelectronics
  • Industrial Techniques and Processes
DEF

The negative or positive nature of a photomask.

Français

Domaine(s)
  • Circuits imprimés et micro-électronique
  • Techniques industrielles

Espagnol

Conserver la fiche 3

Fiche 4 2001-05-18

Anglais

Subject field(s)
  • Printed Circuits and Microelectronics
  • Industrial Techniques and Processes
CONT

Masks for printed or microcircuitry work can be prepared by simple techniques such as knife cutting, or by means of sophisticated systems. For both printed and integrated-circuit work, the original circuit layout is the starting point. Then, means for generating the pattern, reproduction, and mask making must be devised. Photomask making for integrated circuit production required far more precision, accuracy, and resolution than does the printed circuit manufacturing process. Whereas printed circuits require careful design and production attention in X and Y dimensions, IC production introduces the third dimension, Z. ICs consist of several layers which must register one with the other to a precision of better than 10 um (250 nm). To provide geometries of the order of one or two microns, very-high-resolution optics are necessary. Because integrated circuits are very susceptible to defects, the ultimate in cleanliness and temperature control is required.

Terme(s)-clé(s)
  • mask making

Français

Domaine(s)
  • Circuits imprimés et micro-électronique
  • Techniques industrielles

Espagnol

Conserver la fiche 4

Fiche 5 1997-03-25

Anglais

Subject field(s)
  • Photoengraving
  • Photography
DEF

In process-colour photography, a positive or negative used to correct the tone range or colour errors in the original or the negative of an illustration.

Français

Domaine(s)
  • Photogravure
  • Photographie
DEF

En photogravure, négatif ou positif pouvant être superposé à l'original ou à un négatif de sélection afin de modifier l'équilibre des couleurs.

Espagnol

Conserver la fiche 5

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