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Record 1,  Textual support,  English

Record number: 1, Textual support number: 1 DEF

A junction formed by the solid-state diffusion of an impurity into a semiconductor of the opposite type.  1, record 1, English, - diffused%20junction

Record 1,  Textual support,  French

Record 1,  Textual support,  Spanish

Record 2,  Textual support,  English

Record number: 2, Textual support number: 1 CONT

A diffusion reactor has a reaction tube or a reaction chamber which is cylindrically shaped. A plurality of semiconductor wafers are placed in the reaction chamber. The reaction chamber is heated at a predetermined temperature and further predetermined gases such as phosphate, nitrogen and oxygen are supplied to the reaction chamber, so that an impurity such as phosphorus is diffused into the semiconductor wafers.  1, record 2, English, - diffusion%20reactor

Record 2,  Textual support,  French

Record number: 2, Textual support number: 1 CONT

Méthodes de diffusion. On place les plaquettes de silicium dans un four à haute température [...] Le réacteur de diffusion est à tube fermé ou à tube ouvert. Dans le premier cas, on met le semiconducteur et sa source en dopant dans un tube scellé qu'on introduit dans un four. Dans le système à tube ouvert, un flux gazeux inerte contenant les espèces dopantes balaye le réacteur durant toute la diffusion [...]  1, record 2, French, - r%C3%A9acteur%20de%20diffusion

Record 2,  Textual support,  Spanish

Record 3,  Textual support,  English

Record number: 3, Textual support number: 1 DEF

Introduction of impurities into semiconductor material by a solid-state diffusion process.  2, record 3, English, - impurity%20diffusion

Record 3,  Textual support,  French

Record number: 3, Textual support number: 1 DEF

Introduction d'impuretés dans un semiconducteur par un procédé de diffusion à l'état solide.  3, record 3, French, - diffusion%20d%27impuret%C3%A9s

Record 3,  Textual support,  Spanish

Record 4,  Textual support,  English

Record number: 4, Textual support number: 1 DEF

The second part of a two-part diffusion. It is the part of the operation in which the diffusant deposited during predeposition is diffused further into the wafer to achieve the desired impurity profile.  2, record 4, English, - drive%2Din

Record 4,  Textual support,  French

Record number: 4, Textual support number: 1 DEF

Deuxième étape de la diffusion, au cours de laquelle on porte les tranches à une température voisine de 1 200°C, sans apport supplémentaire de dopant, afin de le faire pénétrer plus profondément dans le substrat les atomes d'impuretés déposés pendant la prédiffusion.  1, record 4, French, - diffusion%20en%20profondeur

Record 4,  Textual support,  Spanish