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FOUR DIFFUSION [8 records]

Record 1 - external organization data 2023-03-17

English

Subject field(s)
  • Compartment - National Occupational Classification (NOC)

French

Domaine(s)
  • Tiroir – Classification nationale des professions (CNP)

Spanish

Save record 1

Record 2 2008-02-18

English

Subject field(s)
  • Printed Circuits and Microelectronics
  • Industrial Techniques and Processes
DEF

A furnace used to make junctions in semiconductors by diffusing dopant atoms into the surface of the material.

CONT

Diffusion process systems are used in the manufacture of solid state devices for discrete as well as integrated circuit components. The end use of these products ranges from a single transistor in a portable radio to semiconductor memory used in computers. In the manufacture of typical integrated circuits, various elevated temperatures and gaseous atmospheres are required. Diffusion furnaces are operated at temperatures between 1000 to 1300 ° C. Thermal uniformity is critical in order to allow insertion of a large number of wafers into the furnace... Deposition systems, of which there are three (liquid, gaseous, solid), are used to deposit impurities on the silicon wafer.

French

Domaine(s)
  • Circuits imprimés et micro-électronique
  • Techniques industrielles
DEF

Appareil dans lequel on chauffe les tranches de silicium à une température voisine de leur température de fusion (entre 900 et 1200 °C), en présence d’une vapeur dopante, en vue d’introduire des atomes d’une impureté dans la masse du semi-conducteur.

OBS

L’impureté se condense sur la surface de la tranche et diffuse ensuite dans l’épaisseur du substrat.

Spanish

Save record 2

Record 3 2007-07-04

English

Subject field(s)
  • Equipment (Chemistry)
  • Semiconductors (Electronics)
  • Physics of Solids
CONT

A diffusion reactor has a reaction tube or a reaction chamber which is cylindrically shaped. A plurality of semiconductor wafers are placed in the reaction chamber. The reaction chamber is heated at a predetermined temperature and further predetermined gases such as phosphate, nitrogen and oxygen are supplied to the reaction chamber, so that an impurity such as phosphorus is diffused into the semiconductor wafers.

French

Domaine(s)
  • Équipement (Chimie)
  • Semi-conducteurs (Électronique)
  • Physique des solides
CONT

Méthodes de diffusion. On place les plaquettes de silicium dans un four à haute température [...] Le réacteur de diffusion est à tube fermé ou à tube ouvert. Dans le premier cas, on met le semiconducteur et sa source en dopant dans un tube scellé qu'on introduit dans un four. Dans le système à tube ouvert, un flux gazeux inerte contenant les espèces dopantes balaye le réacteur durant toute la diffusion [...]

Spanish

Save record 3

Record 4 2007-07-04

English

Subject field(s)
  • Equipment (Chemistry)
  • Semiconductors (Electronics)
  • Physics of Solids
CONT

... the crystal growth is performed in an open tube reactor which only has one temperature zone to be controlled. In the case of CdTe, it is the tellurium which will be used as a solvent.

Key term(s)
  • open-tube reactor

French

Domaine(s)
  • Équipement (Chimie)
  • Semi-conducteurs (Électronique)
  • Physique des solides
CONT

Méthodes de diffusion. On place les plaquettes de silicium dans un four à haute température [...] Le réacteur de diffusion est à tube fermé ou à tube ouvert. Dans le premier cas, on met le semiconducteur et sa source en dopant dans un tube scellé qu'on introduit dans un four. Dans le système à tube ouvert, un flux gazeux inerte contenant les espèces dopantes balaye le réacteur durant toute la diffusion [...]

Spanish

Save record 4

Record 5 2001-08-10

English

Subject field(s)
  • Food Industries
  • Breadmaking
  • Industries - General
DEF

[An] oven ... in which the sole is a permanent fixture (unlike that of a drawplate, travelling, reel or rotary oven), and a peel must be used for setting and drawing the goods.

French

Domaine(s)
  • Industrie de l'alimentation
  • Boulangerie
  • Industries - Généralités
CONT

Four à sole fixe. [...] Il est couramment à chauffage indirect [dit aérotherme] : la ou les chambres de cuisson sont disposées au-dessus du foyer, relié lui-même à des gaines de diffusion, qui répartissent la chaleur à travers la construction. Les fumées sont rejetées par l'aspiration de la cheminée de tirage. Les buées de cuisson sont récupérées dans une gaine spéciale d’évacuation réglable.

Spanish

Save record 5

Record 6 2001-05-25

English

Subject field(s)
  • Electronic Systems
  • Electronics

French

Domaine(s)
  • Ensembles électroniques
  • Électronique
DEF

Récipient de quartz en forme de bateau destiné à recevoir les tranches de semiconducteur pour les opérations d’oxydation ou de diffusion dans un four.

Spanish

Save record 6

Record 7 1991-04-25

English

Subject field(s)
  • Surface Coating (Metals)

French

Domaine(s)
  • Recouvrement des métaux
OBS

La compagnie ontarienne Walbar fabrique des turbines dont les aubes sont protégées par un revêtement d’oxyde d’aluminium. Ces aubes sont ensuite introduites dans un four où le durcissement se fait par diffusion.(Argus Walkie, contremaître chez Walbar).

Spanish

Save record 7

Record 8 1983-11-10

English

Subject field(s)
  • Occupation Names (General)
OBS

Official title no. 8539-146 of the Canadian Classification of Occupations.

OBS

(ELECTRONIC EQUIP.)

French

Domaine(s)
  • Désignations des emplois (Généralités)
OBS

Appellation officielle no 8539-146 de la Classification canadienne descriptive des professions.

OBS

(MAT. ÉLECTRON.)

Spanish

Save record 8

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